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En outre les variations de taille des cellules empêchent la diffraction ou la diffusion d'être visibles dans certaines zones du composant.
Furthermore, the variation in size of the cells serves to prevent diffraction or scattering from being visible in certain zones of the component.
Le faisceau d'ions possède une plus petite longueur d'onde, et produit ainsi la diffraction ou la dispersion très petite des particules.
Ion beam possesses a smaller wavelength, and thus produces very little diffraction or scattering of the particles.
Dans les situations de forte intensité, une caméra dotée d'un objectif à diaphragme automatique peut être affectée par la diffraction ou les flous causés lorsque l'ouverture du diaphragme devient trop petite.
In bright situations, a camera with an auto iris lens can be affected by diffraction and blurring when an iris opening becomes too small.
Ledit substrat se caractérise en ce que la surface de la couche extérieure, située sur le côté possédant la couche barrière aux gaz, est dotée d'une structure rétreinte et saillante qui permet la diffraction ou la diffusion de la lumière.
This resin film substrate is characterized in that the surface of the outermost layer on the side having the gas barrier layer has a recessed and projected structure for diffracting or diffusing light.
cet anneau d'ouvertures segmente horizontalement l'espace de collecte afin que les sorties de signaux des détecteurs qui sont saturés par la diffraction ou la diffusion du modèle puissent être rejetées et que seules les sorties des détecteurs non saturés soient utilisées en vue d'une détection d'anomalie
this ring of apertures segments azimuthally the collection space so that the signal outputs from detectors that are saturated by the pattern diffraction or scattering may be discarded and only the outputs of unsaturated detectors are used for anomaly detection
La Correction optique de proximité ou OPC (pour Optical proximity correction) est une technique d'amélioration de la photolithographie communément utilisée, dans le domaine de la micro-électronique, pour compenser les erreurs dues à la diffraction ou aux effets liés au procédé de fabrication.
Optical proximity correction (OPC) is a photolithography enhancement technique commonly used to compensate for image errors due to diffraction or process effects.
L'invention concerne un microphone dont les variations des caractéristiques de fréquence résultant de la diffraction ou des réflexions sont éliminées autant que possible.
Provided is a microphone, wherein changes in frequency characteristics resulting from diffraction/reflection are minimized.
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