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Method of forming a pattern

Traduction de "Method of forming a pattern" en allemand

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Verfahren zur Herstellung eines Musters
Method of forming a pattern employing a photosensitive composition.
Verfahren zur Herstellung eines Musters unter Verwendung einer lichtempfindlichen Zusammensetzung.
Method of forming a pattern and projecting exposure apparatus
Verfahren zur Herstellung eines Musters und Projektionsbelichtungsapparat
Method of forming a pattern, conductive patterned material, and method of forming a conductive pattern
Verfahren zur Herstellung eines Musters, Material mit leitfähigem Muster, Verfahren zur Herstellung eines leitfähigen Musters
Method of forming a pattern on a ceramic substrate.
Herstellen eines Musters auf einem keramischen Substrat.
Method of forming a pattern in a rigid disk magnetic layer
Verfahren zum Formen eines Musters in einer magnetischen Festplattenschicht.
Method of forming a pattern on a substrate, method of manufacturing a display device, display device.
Verfahren zum Bilden eines Musters auf einem Substrat, Verfahren zum Herstellen einer Bildwiedergabeanordnung, Bildwiedergabeanordnung.
Method of forming a pattern on a surface.
Muster-Herstellungsverfahren auf einem Substrat.
A method of forming a pattern, which comprises the step of applying the anti-reflective coating composition described in any one of claims 1 to 4 onto a photoresist film and heating it as necessary.
Verfahren zur Herstellung einer Struktur, das aus dem Aufbringen der in einem der Ansprüche 1 bis 4 beschriebenen reflexionsvermindernden Beschichtungszubereitung auf einen Photoresistfilm und erforderlichenfalls im Erwärmen des Films besteht.
A method of forming a pattern of colour coatings onto a see-through panel according to any of claims 1 to 5, wherein at least one of said colour coatings is substantially opaque.
Verfahren der Formung eines Musters aus Farbschichten auf einer durchsichtigen Platte gemäß beliebigem oder beliebigen der Ansprüche 1 bis 5, wobei zumindest eine der Farbschichten im Wesentlichen opak ist.
A method of forming a pattern which comprises the steps of: forming a layer comprising the photoresist resin composition of Claim 3 on a substrate; subjecting said layer to pattern exposure; and developing the exposed coating layer to form a pattern.
Verfahren zum Erzeugen eines Musters, umfassend die folgenden Schritte: das Aufbringen einer Schicht mit der Photoresistharzzusammensetzung nach Anspruch 3 auf einem Substrat; das musterförmige Belichten der Schicht; und das Entwickeln der auf dem Substrat aufgebrachten belichteten Schicht, um ein Muster zu erzeugen.
A method of forming a pattern characterized in that halftone phase shifting photomask as claimed in any of claims 9 to 18 is used.
Verfahren zur Ausbildung eines Musters, dadurch gekennzeichnet, daß eine Halbton-Phasenschieberphotomaske nach einem der Ansprüche 9 bis 18 verwendet wird.
METHOD OF FORMING A PATTERN OF SUB-MICRON BROAD FEATURES
METHODE ZUR ERZEUGUNG EINES MUSTERS MIT SUB-MIKROMETER ELEMENTEN
METHOD OF FORMING A PATTERN ON A SEMICONDUCTOR WAFER USING AN ATTENUATED PHASE SHIFTING REFLECTIVE MASK
VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG EINES MUSTERS AUF EINER HALBLEITERSCHEIBE MITTELS EINER GEDÄMPFTEN PHASENSCHIEBERREFLEXIONSMASKE
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