Electron beam processing is used to irradiate materials in order to change their physical properties or sterilize medical and food products.
Le traitement par faisceau d'électrons est utilisé pour l'irradiation des matériaux pour changer leurs propriétés physiques ou stériliser des produits à usage médical ou alimentaire.
Embodiments of the invention include a cell in which the sample is positioned during high pressure charged particle beam processing.
Des modes de réalisation de l'invention comprennent une cellule dans laquelle l'échantillon est positionné pendant un traitement de faisceau de particules chargées à haute pression.
Offers contract electron beam processing for plastics crosslinking, plastic product enhancement, and sterilization of medical devices.
Offre un traitement de faisceau d'électrons sous contrat pour la réticulation des matières plastiques, l'amélioration du produit en plastique et la stérilisation des dispositifs médicaux.
The present invention is directed to a particle beam processing apparatus that is smaller in size and operates at a higher efficiency, and also directed to an application of such apparatus to treat a coating on a substrate of a treatable material, such as for flexible packaging.
L'invention concerne un appareil de traitement à faisceau de particules de taille inférieure fonctionnant plus efficacement. L'invention concerne également une mise en oeuvre dudit appareil pour traiter le revêtement sur un substrat d'une matière qui peut être traitée, telle qu'un emballage flexible.
Surface position detector and laser beam processing machine
In still another aspect, ion beam processing can be used to minimize differences in surface characteristics between opposite sides of a substrate.
Dans un troisième aspect de cette invention, le traitement par faisceau ionique peut servir à réduire au minimum les différences de caractéristiques de surface entre les côtés opposés d'un substrat.
A method for extremely accurately calibrating the offset between the column and imaging system is disclosed, enabling beam processing at precisely-determined locations on the substrate.
Un procédé d'étalonnage extrêmement précis du décalage entre la colonne et le système d'imagerie est décrit, permettant un traitement par faisceau à des emplacements déterminés précisément sur le substrat.
and transmission means for transmitting motion to the first and second beam processing member
et des moyens de transmission pour transmettre un mouvement aux premier et second éléments de traitement de faisceau
to selectively move the first and second beam processing member
de façon à déplacer de façon sélective les premier et second éléments de traitement de faisceau
The channel may also be doped by gas-cluster ion beam processing either as an auxiliary step or simultaneously with formation of the increased mobility channel.
Le canal peut également être dopé par le traitement par faisceau ionique à agrégats gazeux soit sous la forme d'une étape subsidiaire ou simultanément avec la formation du canal à mobilité accrue.
Provided is a beam processing apparatus or a beam monitoring apparatus which has reduced sizes and reduced cost.
La présente invention concerne un appareil de traitement de faisceau ou un appareil de surveillance de faisceau qui présente des dimensions et un coût réduits.
The axes of the charged particle column and imaging system are offset to enable much closer working distances for both imaging and beam processing than would be possible in a single integrated assembly.
Les axes de la colonne de particules chargées et du système d'imagerie sont décalés afin de permettre des distances de travail bien plus proches pour l'imagerie et le traitement par faisceau que ce qui serait possible dans un ensemble intégré unique.
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