a method of patterning a layer of e-beam sensitive dielectric material, such as bisbenzocyclobutene monomers, using electron beam lithography.
un procédé de formation de motifs sur une couche d'un matériau diélectrique sensible aux faisceaux d'électrons, tel que des monomères de bisbenzocyclobutène, par lithographie par faisceaux d'électrons.
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