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substrate processing step
Traduction de "substrate processing step" en français
étape de traitement de substrat
In a second substrate processing step, an argon plasma is formed in the processing chamber.
Dans une seconde étape de traitement de substrat, un plasma d'argon est formé dans la chambre de traitement.
After performing a first substrate processing step, the plasma is maintained in the processing chamber and at least one operating parameter is adjusted.
Après la réalisation d'une première étape de traitement de substrat, le plasma est maintenu dans la chambre de traitement et au moins un paramètre d'exploitation est ajusté.
During a first substrate processing step, a plasma is formed from a gas mixture of argon, helium, and hydrogen in the processing chamber.
Pendant une première étape de traitement de substrat, un plasma est formé à partir d'un mélange gazeux d'argon, d'hélium, et d'hydrogène dans la chambre de traitement.
One or more additional substrate processing steps are performed without an interruption in the plasma between the first substrate processing step and the one or more additional substrate processing steps.
Une ou plusieurs étapes supplémentaires de traitement de substrat sont réalisées sans interruption dans le plasma entre la première étape de traitement de substrat et ladite une ou lesdites plusieurs étapes supplémentaires de traitement de substrat.
which comprises a substrate processing step wherein a plurality of projected portions composed of surfaces 12c not parallel to c-plane of the substrate are formed on the c-plane
qui comprend une étape de traitement de substrat dans laquelle une pluralité de parties en saillie composées de surfaces non parallèles au plan c du substrat sont formées sur le plan c
Disclosed is a wet removing method which does not cause damage to a substrate when a spin-coated organic hard mask, which is used during a semiconductor substrate processing step in semiconductor device production, is removed from the substrate.
La présente invention concerne un procédé de retrait humide qui n'endommage pas un substrat lorsqu'un masque dur organique recouvert par centrifugation, utilisé pendant l'étape de traitement du substrat à semi-conducteurs dans la production du dispositif à semi-conducteurs, est retiré du substrat.
Synonymes et analogies de "substrate processing step" en anglais
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