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Method of applying a resist pattern on a substrate, and resist material mixture.
Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters auf ein Substrat und Resistmaterial.
Resist material and process for forming fine resist pattern.
Resistmaterial und Verfahren zur Herstellung eines feinen Resistmusters.
A sheet according to claim 5 which has been selectively cross-linked to form a resist pattern.
Flächenkörper nach Anspruch 5, der selektiv vernetzt worden ist, um eine Resiststruktur zu bilden.
The method as defined in claim 4 wherein the resist pattern is developed with an organic solvent and said mask layer is patterned by dry etching.
Verfahren nach Anspruch 4, wobei die Resiststruktur mit einem organischen Lösungsmittel entwickelt wird und die Maskenschicht durch einen Trockenätzvorgang strukturiert wird.
The process according to claim 1 in which the negative resist pattern is formed from an alkali-developable photosensitive resist film.
Verfahren nach Anspruch 1, in dem das negative Resistmuster aus einem alkalisch entwickelbaren fotoempfindlichen Resistfilm gebildet ist.
A member having a resist pattern and/or ink-accepting areas defined by a first formulation as described in any of claims 6 to 18.
Gegenstand mit einem Resistmuster: und/oder farbannehmenden Bereichen, definiert durch eine erste Formulierung wie in einem der Ansprüche 6 bis 18 beschrieben.
Positive resist composition and method of forming resist pattern using the same
Positiv arbeitende Resistzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters unter Verwendung dieser Zusammensetzung
Method for forming a minute resist pattern and method for forming a gate electrode
Verfahren zur Herstellung eines kleinen Resistmusters sowie Verfahren zur Herstellung einer Gateelektrode
Resist composition, method of forming resist pattern, semiconductor device and method od manufacturing thereof
Resistzusammensetzung, Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters, Halbleitervorrichtung und Verfahren zu deren Erzeugung
A process according to any preceding claim, wherein the step of forming the resist pattern and the step of dry etching are carried out in different treatment spaces.
Verfahren gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Schritt des Ausbildens des Resistmusters und der Schritt des Trockenätzens in verschiedenen Behandlungsräumen ausgeführt werden.
A method of preparing a resist pattern on a precursor according to any preceding claim, the method comprising providing over a support a heat sensitive composition and a developer resistance means according to any preceding claim, and causing imagewise application of heat to said heat sensitive composition.
Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters auf einem Vorläufer nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei das Verfahren das Bereitstellen einer wärmeempfindlichen Zusammensetzung und eines Entwicklerbeständigkeitsmittels nach einem der vorstehenden Ansprüche auf einem Träger, und bildweises Anwenden von Wärme auf die wärmeempfindliche Zusammensetzung umfasst.
The inspection method according to claim 11 or 12, comprising the step of: measuring a line width of said resist pattern from said intensity profile.
Prüfverfahren nach Anspruch 11 oder 12, mit dem folgenden Schritt: - Messen einer Linienbreite des Resistmusters aus dem Intensitätsprofil.
A process according to any claims 7 to 13, which additionally comprises selectively etching the substrate, the resist pattern being used as a mask.
Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 13, welches zusätzlich das selektive Ätzen des Substrats umfaßt, wobei das Resistmuster als Maske verwendet wird.
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