Apparatus for nondestructively measuring characteristics of a semiconductor wafer having a junction.
Vorrichtung zur zerstörungsfreien Messung der Eigenschaften einer Halbleiterscheibe mit einem Übergang.
Optical lithographic method and apparatus for copying a pattern onto a semiconductor wafer.
Optisches Lithographieverfahren und Einrichtung zum Kopieren eines Musters auf eine Halbleiterscheibe.
Notch-cut semiconductor wafer, and method and apparatus for chamfering the notch.
Methods and apparatus for thermal transfer with a semiconductor wafer in vacuum.
Method for automatically identifying and classifying defects, in particular on a semiconductor wafer
Verfahren zur automatischen Identifizierung und Klassifizierung von Defekten, insbesondere auf einem Halbleiterwafer
Method and apparatus for measuringcharge carrier lifetime of a semiconductor wafer
Verfahren und Gerät zum Messen der Lebensdauer von Ladungsträgern in einem Halbleiterwafer
Apparatus for monitoring the conductivity of a semiconductor wafer during polishing.
System zum Kontrollieren der Leitfähigkeit eines Halbleiterplättchens während des Schleifens.
Frangible semiconductor wafer dicing method which employs scribing and breaking.
Verfahren zum Schneiden von zerbrechlichen Halbleiterplättchen mit Anwendung von Anritzen und Brechen.
Dopant film and methods of diffusing impurity into and manufacturing a semiconductor wafer.
Dotierungsfolie und Methoden zur Diffusion von Verunreinigungen und Herstellung eines Halbleiterplättchens.
Spinning device for processing a substrate, in particular a semiconductor wafer.
Wirbeleinrichtung zur Behandlung eines Substrates, insbesondere einer Halbleiterscheibe.
Process for deposition of a tungsten layer on a semiconductor wafer.
Verfahren zum Anbringen einer Wolframschicht auf einem Halbleiterplättchen.
Method of applying a bevelled edge contour to a semiconductor wafer.
Verfahren zum Anbringen einer abgeschrägten Randkontur an einer Halbleiterscheibe.
Process for the rapid thermal annealing of a semiconductor wafer using irradiation.
Verfahren zum Kurzzeittempern einer Halbleiterscheibe durch Bestrahlung.