Vertaling van "multiple charged particles" in Frans
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multiplets
Any correction for multiple charged particles shall be applied and documented, but it shall not exceed 10 %.
Toute correction pour les multiplets doit être appliquée et documentée, mais elle ne doit pas dépasser 10 %.
The final efficiencies (e.g. adjusted for the different material and multiple charged particles) shall cover the PM number analyser and sampling line.
Les efficacités finales (par exemple, ajustées pour tenir compte de différences de matériau et de multiplets) doivent couvrir l'analyseur de particules en nombre et la conduite de prélèvement.
Andere resultaten
array of multiple charged particle beamlet emitting columns
The system generates fission from fertile nuclear materials and includes multiple charged particle sources, nested redundancy of low energy accelerator sections for reliability, and multiple subcritical reactors.
Le système génère la fission de matières nucléaires fertiles et comprend de multiples sources de particules chargées, une redondance imbriquée de sections d'accélérateur à basse énergie pour la fiabilité, et de multiples réacteurs sous-critiques.
a method, an associated structure, and an apparatus for multiple charged particle beam calibration and shielded charged particle lithography
a charged particle beam column efficiently illuminates a blanking aperture array by splitting a charged particle beam into multiple charged particle beams and focusing each charge particle beam on a separate aperture of the blanking aperture array
une colonne de faisceaux de particules chargées éclaire efficacement une matrice à orifices de suppression en divisant un faisceau de particules chargées en plusieurs faisceaux et en focalisant chacun de ces faisceaux sur un orifice distinct de la matrice
A detector optics system for collecting secondary electrons (SEs) and/or backscattered electrons (BSEs) in a multiple charged particle beam test system is disclosed.
L'invention concerne un système à composants optiques de détecteur permettant de recueillir des électrons secondaires (SE) et/ou des électrons rétrodiffusés (BSE) dans un système d'essai à faisceau de particules chargées multiple.
Multiple lens assembly and charged particle beam device comprising the same
Assemblage de lentilles multiples et dispositif de faisceau de particules chargées comprenant un tel assemblage
The invention relates to a multiple beam charged particle optical system, comprising an electrostatic lens structure with at least one electrode, provided with apertures, wherein the effective size of a lens field effected by said electrode at a said aperture is made ultimately small.
L'invention concerne un système optique à faisceaux multiples chargé de particules, comprenant une structure de lentille électrostatique dotée d'au moins une électrode et pourvue d'ouvertures, la taille efficace d'un champ couvert réalisé par l'électrode au niveau de l'ouverture étant minimale.
a beamlet generating arrangement comprising at least one multi-aperture plate for generating a pattern of multiple beamlets of charged particles, and an electrostatic lens arrangement comprising at least one electrode element
un dispositif produisant des petits faisceaux et qui comprend au moins une plaque à ouvertures multiples permettant de produire un motif de multiples petits faisceaux de particules chargées, et un dispositif de lentille électrostatique comprenant au moins un élément d'électrode
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