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p-type diffusion layer
Vertaling van "p-type diffusion layer" in Frans
couche de diffusion de type p
shown in the drawing, a p-type diffusion layer
à semi-conducteur illustré par le dessin, une couche
A solar cell element having the n-type diffusion layer or p-type diffusion layer is produced.
De cette manière sont produits des éléments de cellule photovoltaïque à couche de diffusion de type n ou à couche de diffusion de type p.
By applying the composition for impurity diffusion layer formation and subjecting the applied composition to a thermal diffusion treatment, an n-type diffusion layer or a p-type diffusion layer is produced.
Lorsque la composition est appliquée en vue de la formation d'une couche de diffusion d'impuretés et est soumise à un traitement de diffusion thermique, une couche de diffusion de type n ou une couche de diffusion de type p sont formées.
the first barrier layer has an n-type diffusion layer and the second barrier layer has a p-type diffusion layer
la première couche barrière possède une couche de diffusion de type n et la seconde couche barrière possède une couche de diffusion de type p
furthermore, a p-type diffusion layer and n-type diffusion layer are formed closely to the vertical charge transfer region on the back surface side of the semiconductor substrate
en outre, une couche de diffusion du type p et une couche de diffusion du type n sont formées à proximité de la région de transfert de charge verticale sur le côté de surface arrière du substrat semi-conducteur
This p-type diffusion layer formation composition comprises: at least one boron compound selected from boron nitride and boron carbide; and a dispersion medium.
La présente invention concerne une composition pour la formation d'une couche de diffusion de type p, comportant : au moins un composé du bore choisi entre le nitrure de bore et le carbure de bore ; et un milieu de dispersion.
on an n-type semiconductor substrate, a p-type diffusion layer is formed by ion implantation, and on a surface layer of the diffusion layer, an n-type resistance element region is formed by ion implantation
sur un substrat semi-conducteur de type n, une couche de diffusion de type p est formée par implantation d'ions et sur une couche de surface de la couche de diffusion, une région d'élément de résistance de type n est formée par implantation d'ions
A p-type diffusion layer (3) is provided upon the n - type drift layer (1) in a termination region around the periphery of the active region.
Une couche de diffusion de type p (3) est disposée sur la couche flottante de type n- (1) dans une région de terminaison autour de la périphérie de la région active.
the signal electric-charge integrating means has an upper-face p-type diffusion layer installed within the p-type semiconductor substrate so as to surround the n-type electric-charge collection-diffusion layer
les moyens d'intégration de charge électrique de signal comprennent: une couche de diffusion de type p de surface supérieure qui est placée à l'intérieur du substrat semi-conducteur de type p de sorte à entourer la couche de diffusion/collecte de charges électriques de type n
The disclosed p-type diffusion layer forming composition is constituted so as to contain a glass powder containing an acceptor element and having a softening temperature of 300-950C, and a dispersion medium.
L'invention concerne une composition formant une couche de diffusion de type P, caractérisée en ce qu'elle contient une poudre de verre contenant un élément accepteur et présentant une température de ramollissement de 300 à 950ºC, ainsi qu'un milieu de dispersion.
The set of electrically inactive PMOS devices in combination with a portion (e.g., PMOS devices) of the pair of cross-coupled inverters enables a continuous p-type diffusion layer for the memory cell circuit.
L'ensemble de composants PMOS électriquement inactifs en combinaison avec une portion (par exemple les composants PMOS) de la paire d'inverseurs à couplage transversal permet une couche de diffusion de type p continue pour le circuit de cellule de mémoire.
By applying a coating of said p-type diffusion layer forming composition and performing thermal diffusion treatment, a p-type diffusion layer, and a solar cell element having the p-type diffusion layer, are produced.
En appliquant un revêtement de ladite composition formant une couche de diffusion de type P et en effectuant un traitement de diffusion thermique, une couche de diffusion de type P et un élément de cellule solaire comprenant la couche de diffusion de type P sont produits.
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Afbeelding van de dag
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