Vertaling van "semiconductor device processing" in Frans
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disclosed is a hydrogen ion microlithography process for use in microelectronic fabrication and semiconductor device processing
on a mis au point un procédé de microlithographie par ions d'hydrogène utilisé dans la fabrication microélectronique et le traitement de dispositifs semiconducteurs
the layer is developed to provide a surface pattern therein adaptable for subsequent use in microelectronic fabrication and semiconductor device processing.
on développe la couche afin d'y produire une configuration de surface adaptable pour une utilisation ultérieure dans la fabrication microélectronique et le traitement de dispositifs semiconducteurs.
Equipment specially designed for mask making or semiconductor device processing using direct writing methods, having all of the following
équipements spécialement conçus pour la production de masques ou le traitement de dispositifs semi-conducteurs, utilisant des méthodes d'écriture directe et présentant toutes les caractéristiques suivantes
The present invention relates to a semiconductor device processing and sorting apparatus in which a plurality of semiconductor devices is tested simultaneously.
L'invention concerne un appareil de traitement et de tri de dispositifs semi-conducteurs et un procédé de manipulation correspondant qui permet de tester plusieurs dispositifs simultanément.
The array electrode may be formed by lithographically patterning a semiconductor wafer such as a silicon wafer utilizing lithographic techniques of the type used in semiconductor device processing.
L'électrode à groupement peut être formée par formation lithographique d'un motif de tranche à semiconducteur, telle qu'une tranche de silicium, par des techniques lithographiques du type de celles utilisées dans le traitement de composant à semiconducteur.
New control input parameters are implemented for a subsequent run of the semiconductor device processing step based upon the modification of the control input parameters (140).
On met en application de nouveaux paramètres d'entrée de contrôle pour l'exécution suivante de l'étape de traitement du composant à semi-conducteur en fonction de la modification de ces paramètres (140).
Equipment specially designed for mask making or semiconductor device processing using deflected focused electron beam, ion beam or "laser" beam, having any of the following
équipements spécialement conçus pour la production de masques ou le traitement de dispositifs semi-conducteurs, utilisant un faisceau électronique, un faisceau ionique ou un faisceau "laser" avec focalisation et balayage du faisceau, présentant l'une des caractéristiques suivantes
MRF = minimum resolvable feature size 2. Equipment specially designed for mask making or semiconductor device processing using deflected focused electron beam, ion beam or "laser" beam, having any of the following
équipements spécialement conçus pour la production de masques ou le traitement de dispositifs semi-conducteurs, utilisant un faisceau électronique, un faisceau ionique ou un faisceau "laser" avec focalisation et balayage du faisceau, présentant l'une des caractéristiques suivantes
SEMICONDUCTOR DEVICE PROCESSING TOOLS AND METHODS FOR PATTERNING SUBSTRATES
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Synoniemen voor semiconductor device processing in het Engels