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pattern formation using

Vertaling van "pattern formation using" in Japans

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を用いたパターン形成
This invention provides a composition for upper surface antireflection film formation, which prevents pattern failure caused by reflection in a film in an exposure process and is free from a problem of a residue in an etching process, and a method for pattern formation using the same.
本発明は、露光工程において膜内の反射によるパターン不良を防ぎ、かつエッチング工程における残渣の問題がない上面反射防止膜形成用組成物と、それを用いたパターン形成方法を提供するものである。
This invention provides a film forming composition for nanoimprinting, which has excellent resistance to etching with oxygen gas, can prevent the separation of a transfer pattern, can eliminate a problem of a holing time on a substrate, and is also excellent in transferability, and photosensitive resist, a nanostructure, a method for pattern formation using the same, and a program for realizing the method for pattern formation.
本発明は、酸素ガスに対するエッチング耐性に優れるとともに、転写パターンの剥離を防止し、基板上における保持時間についての問題を解消し、転写性にも優れるナノインプリント用の膜形成組成物及び感光性レジスト、ナノ構造体、これらを用いたパターン形成方法、並びにこのパターン形成方法を実現するためのプログラムを提供する。
This invention provides a material for pattern formation, which, when a highly transparent material is used as a support for the formation of a pattern like a solder resist, can realize a good resist face shape, a higher-definition pattern, and a suitable blue or green color, and an apparatus for pattern formation, comprising the material for pattern formation, and a method for pattern formation using the material for pattern formation.
ソルダーレジストのようなパターンの形成を目的として、高透明な物質を支持体として使用することにより、得られるレジスト面形状が良好で、かつ、より高精細なパターンであり、好適な青、緑色となるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供することを目的にする。
This invention provides a positive working resist composition, comprising (A) a resin, which comprises all of repeating units represented by general formulae (I) to (III) and is rendered soluble in an alkali developing solution through the action of an acid, and (B) a compound which generates an acid upon exposure to an actinic radiation or a radiation, and a method for pattern formation using the positive working resist composition.
（Ａ）一般式（Ｉ）～（ＩＩＩ）で表される各繰り返し単位を全て含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂および（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。
RESIST MATERIAL AND METHOD FOR PATTERN FORMATION USING THE RESIST MATERIAL
レジスト材料及びそれを用いたパターン形成方法
METHOD OF PATTERN FORMATION USING ULTRAHIGH HEAT RESISTANT POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
超高耐熱ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR PATTERN FORMATION USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
POSITIVE-WORKING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PATTERN FORMATION USING THE COMPOSITION, AND RESIN FOR USE IN THE COMPOSITION
ポジ型感光性組成物、該組成物を用いたパターン形成方法、及び、該組成物に用いられる樹脂
This invention provides a positive-working resist composition, which, upon a change in exposure, causes no significant variation in pattern size, and a method for resist pattern formation using the positive-working resist composition.
露光量が変化した際のパターンサイズの変動を小さく抑えることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
This invention provides a novel rinsing liquid for lithography, which, for a photoresist pattern, can reduce surface defects, the so-called defects, without sacrificing the quality of the product, and, at the same time, can impart resistance to electron beam irradiation to suppress the shrinkage of the resist pattern, and a method for resist pattern formation using the same.
ホトレジストパターンについて、製品の品質をそこなうことなく、その表面欠陥、いわゆるディフェクトを減少させ、また電子線照射に対する耐性を付与して、レジストパターンの収縮を抑制するために用いられる新規なリソグラフィー用リンス液、及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
This invention provides a photosensitive composition, which can simultaneously realize excellent storage stability and high sensitivity and can form a permanent pattern such as a protective film or an insulating film with high definition in an efficient manner, a photosensitive film, a method for permanent pattern formation using the photosensitive composition, and a printed board comprising a permanent pattern formed by the method for permanent pattern formation.
優れた保存安定性と高感度とを両立し、保護膜、絶縁膜などの永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び該永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板を提供する。
This invention provides a coating forming agent for pattern fining, which does not cause any defect after fining treatment, can suppress and control a variation in the level of fining even in fining treatment of an ultrafine resist pattern, particularly having a size of not more than 120 nm with an enhanced aspect ratio, can maintain a good resist pattern shape after the fining treatment while maintaining the desired fining level, and, at the same time, can eliminate troubles caused by the occurrence of bacteria and the like within a wafer plane after the coating of a coating forming agent for pattern fining, and a method for fine pattern formation using the coating forming agent.
微細化処理後にディフェクトが発生することなく、特に１２０ｎｍ以下の超微細化、高アスペクト比化したレジストパターンの微細化処理においても微細化量の変動を抑制、管理可能であり、所望とする微細化量を維持しながら、微細化処理後のレジストパターン形状を良好に維持することができ、さらには、パターン微細化用被覆形成剤を塗布した後のウェーハ面内においてバクテリア等の発生による不具合も解消することが可能なパターン微細化用被覆形成剤及びこれを用いた微細パターン形成方法を提供する。
The group analyzed the mosaic pattern formation using a combination of biological and mathematical models.
モザイクパターンが作られる過程を生物学と数理モデルを融合させた手法で解析しました。
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Synoniemen voor pattern formation using in het Engels

Woord & uitdrukking van de dag
Afbeelding van de dag
jug: container with a handle and spout for liquids
Ontdek het woord
jug
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Suggesties

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method for pattern formation using
resist pattern formation method using

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