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developing solution
Translation of "developing solution" in Japanese
Soaking invisible film in developing solution and watching images gradually emerge on their surfaces elicits cheers from the children.
何も見えないフィルムを現像液にひたし、徐々に画像が浮かび上がってくる様子を見ると、子供たちから歓声がわき上がります。
The developing solution jetting nozzle can be moved by a nozzle moving mechanism in a specified direction in the casing.
現像液吐出ノズルはノズル移動機構により筐体内を一定方向に移動できる。
The photopolymerizable polymer (A) having a fluorene skeleton contains a moiety that is soluble in an alkali developing solution.
フルオレン骨格を有する光重合性ポリマー（Ａ）が、アルカリ現像液に可溶な部位を含む。
Disclosed is a developing solution comprising an aqueous alkali solution, at least one anion selected from a silicate ion, a carbonate ion, a borate ion and a phosphate ion, and at least one cation selected from an ammonium ion, an organic ammonium ion and an alkali metal ion.
現像液は、アルカリ性水溶液と、ケイ酸イオン、炭酸イオン、ホウ酸イオンおよびリン酸イオンの少なくとも１種のアニオンと、アンモニウムイオン、有機アンモニウムイオンおよびアルカリ金属イオンの少なくとも１種のカチオンとを含んでいる。
Also disclosed is a method for forming a resist pattern using the developing solution.
本発明は、導電性高分子を含む基材に配されたフォトレジストを現像することのできる現像液および、当該現像液を用いてレジストパターンを形成する方法である。
A composition for antireflection film formation which has excellent applicability, is significantly inhibited from generating ultrafine bubbles, gives an antireflection film capable of sufficiently reducing the standing wave effect, and has excellent solubility in water and an alkaline developing solution.
優れた塗布性を有し、微細なマイクロバブルの発生が著しく抑制され、しかも形成された反射防止膜が定在波効果を十分低減することができ、かつ水およびアルカリ現像液に対する溶解性に優れた反射防止膜形成用組成物を提供する。
Furthermore, it was theoretically proven that as the amine compounds produced by exposure to light acted as an imidizing catalyst, only the polyamide acid that had been exposed to light could not be dissolved by the alkaline developing solution.
さらに、光を当てたポリアミド酸は、光によって発生したアミン系化合物がポリアミド酸のイミド化触媒としても作用したことで、光があたった部分のみアルカリ性現像液に溶けなくなることが理論的にも証明された。
Subsequently, the resin film having the latent image pattern is contacted with a developing solution to make the pattern visible to thereby form a resin pattern on the, a transparent resin pattern is obtained.
また、この樹脂組成物を用いて基板上に樹脂膜を積層し、この樹脂膜に活性放射線を照射して、潜像パターンを形成し、次いで潜像パターンを有する当該樹脂膜と現像液とを接触させてパターンを顕在化させ、基板上に樹脂パターンを形成して透明樹脂パターン膜を得る。
A photosensitive lithographic printing plate the photosensitive lithographic printing plate material is developed with a developing solution containing no silicic acid, a colorant released from the printing plate material during the development does not adhere again to the printing plate material.
本発明は、珪酸を含有しない現像液による現像処理において、現像時に感光性平版印刷版材料から溶出した色素が、印刷版材料に対して再付着せず、印刷版自体の汚れと、印刷に際し印刷物の画像の汚れのない、感光性平版印刷版材料及びその現像処理方法を提供する。
Further, since the finely powdered epoxy compound in the unexposed portion is washed away by the developing solution during the course of the development, the composition so excels in developing property as to be developed in a shorter time.
この必須の成 分である微粒（粉）状エポキシ化合物は，使用する希釈剤に難溶であり，微粒状のまま分散さ せて用いられるため，すなわちフィラーと同じような用い方であるため，現像液に侵されにく く感度の低下がなく，また現像の際に未露光部の微粒状エポキシ化合物は現像液により洗い流 されるため現像性に優れ，短時間で現像することができ，さらにその後の加熱によりエポキシ 化合物を単独で溶融熱硬化させ，あるいは感光性プレポリマーと共重合させ，目的とする諸特 性に優れたプリント配線板用ソルダーレジストパターンを形成せしめることができる。
A resist composition which generates acid upon exposure and exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid, the resist composition including a polymeric compound containing a base decomposable group in a main chain thereof.
【課題】リソグラフィー特性を維持しながらアルカリ現像液に対する高い溶解性を持ち、かつディフェクトの低減を達成することができるレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供することを課題とする。【解決手段】露光により酸を発生し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、塩基分解性基を主鎖に含む高分子化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。【選択図】なし
A method for forming a resist pattern, which comprises a step of forming a resist film on a substrate by using a resist composition containing a resin component (A) exhibiting the alkali solubility which changes by the action of an acid and an acid-generating component (B) generating an acid by the exposure to a light, a step of selectively exposing the above resist film to a light, and a step of developing the above resist film using an alkaline developing solution with a developing time less than 30 seconds, to form a resist pattern.
酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物を用いて基板上にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜を選択的に露光する工程と、前記レジスト膜を、アルカリ現像液を用いて、３０秒未満の現像時間で現像してレジストパターンを形成する工程とを含むレジストパターン形成方法。
The positive-working photosensitive composition comprises (A) a resin, which has a specific lactone structure on its side chain and undergoes an increase in solubility in an alkali developing solution upon the action of an acid, and (B) a compound which generates an acid upon exposure to an actinic radiation or a radiation.
通常露光（ドライ露光）のみならず、液浸露光においても、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスが抑制されたポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型感光性組成物が含有する新規な樹脂として、（Ａ）側鎖に特定のラクトン構造を有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法、及び該ポジ型感光性組成物が含有する新規な樹脂を提供する。
Synonyms and analogies of "developing solution" in English
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