The system can be fully extended to measure EUV photomasks.
Das System kann voll ausgefahren werden, um EUV Photomasken messen.
In addition, the EUV masks must be highly and uniformly reflective.
Zudem wird von den EUV Masken eine möglichst hohe und gleichmäßige Reflexion gefordert.
In addition, measuring instruments for the examination of microstructures using EUV and X-radiation are developed.
Zudem werden messtechnische Einrichtungen für die Untersuchung von Mikrostrukturen mit EUV- und Röntgenstrahlung entwickelt.
There are no materials transparent for EUV radiation.
Es gibt keine für EUV Strahlung transparente Materialien.
Employees and guests of the EUV obtain special rates.
Mitarbeitende und Gäste der EUV erhalten Sonderkonditionen.
The key to producing these chips has three letters: EUV.
Der Schlüssel für die Produktion solcher Chips hat drei Buchstaben: EUV.
A system for correcting aberration and distortion in EUV litography
System zur Korrektur der Aberration und der Distortion in der EUV Lithographie
Imaging system for microscope based on extreme ultraviolet (EUV) radiation
Abbildungssystem für ein, auf extrem ultravioletter (EUV) Strahlung basierendem Mikroskop
Target steering system for a droplet generator in a EUV plasma source
Target-Führunggsystem für einen Tröpfchengenerator in einer EUV Plasmaquelle
After extensive industry analysis, some key infrastructure gaps for EUV are in the area of mask metrology.
Nach umfangreicher Industrieanalyse sind einige Schlüsselinfrastrukturabstände für EUV im Bereich der Maskenmetrologie.
Besides the development of powerful EUV radiation sources, the production of suitable optical components is a great challenge.
Neben der Entwicklung leistungsstarker EUV Strahlungsquellen ist die Herstellung geeigneter optischer Komponenten eine große Herausforderung.
Especially in the EUV range this approach is mostly not practical due to the strong absorption and the extremely thin samples required.
Gerade im EUV Bereich ist dieser Ansatz aber meistens nicht praktikabel durch die starke Absorption und die dadurch benötigten extrem dünnen Proben.
In lithography, EUV has a wavelength of approx 13 nm.
In der Lithographie hat EUV eine Wellenlänge von ungefähr 13 nm.