Vertaling van "patterning a" in Frans
methods and apparatus for patterning a surface
The current invention is directed to a method of patterning a surface or layer in the fabrication of a micro-device.
A method of patterning a crystalline film.
Method and systems for patterning a hard mask film using ultraviolet light is disclosed according to one embodiment of the invention.
Un procédé et des systèmes pour la formation de motifs sur un film de masque dur à l'aide d'une lumière ultraviolette sont décrits conformément à un mode de réalisation de l'invention.
A method of patterning a conductive layer to form transparent electrical conductors that does not require etching is disclosed.
L'invention concerne un procédé de structuration d'une couche conductrice pour former des conducteurs électriques transparents qui ne nécessite pas une gravure.
a method corresponding to the apparatus for patterning a workpiece
method and apparatus for patterning a workpiece
method for patterning a ferroelectric polymer layer
méthode de structuration d'une couche en polymère ferroélectrique
method and apparatus for patterning a workpiece and methods of manufacturing the same
procédé et appareil de structuration d'une pièce à travailler, et procédés de fabrication de la pièce
a method for patterning a substrate, the method comprising
a semiconductor device is made by patterning a conductive layer for forming gates of transistors
Provided is a novel method for patterning a conductive film, which has excellent handleability and for which existing equipment can be used.
L'invention concerne un nouveau procédé de formation de motifs sur un film conducteur, qui présente une excellente aptitude à la manipulation et pour lequel un équipement existant peut être utilisé.
In one implementation, a method includes patterning a substrate with a substantially arbitrary arrangement of features by introducing irregularity into an array of repeating lines and spaces between the lines.
Dans un mode de réalisation, un procédé comprend la formation de motifs sur un substrat possédant une disposition sensiblement arbitraire des traits caractéristiques grâce à l'introduction d'une irrégularité dans un motif de lignes répétées et d'espaces entre les lignes.