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pattern formation method
Vertaling van "pattern formation method" in Japans
パターン形成方法
パターンの形成方法
The purpose of the present invention is to provide a pattern formation method that can form a pattern of good shape.
本発明は、良好な形状のパターンが形成可能なパターン形成方法を提供することを目的とする。
There are provided a pattern formation method capable of accurately realizing a continuous thin film circuit pattern with a low environment load and at a low cost, an electronic circuit manufactured by the method, and an electronic device using it.
低コストおよび低環境負荷で、かつ連続した薄膜回路パターンを精度よく実現できるパターン形成方法、およびこれにより製造される電子回路、並びにこれを用いた電子機器を提供する。
PATTERN FORMATION METHOD, PATTERN, AND DEVICE
パターンの形成方法、パターン及びデバイス
RESIST DEVELOPMENT METHOD, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, MOLD MANUFACTURING METHOD, AND DEVELOPING SOLUTION USED FOR SAME
レジストの現像方法、レジストパターンの形成方法およびモールドの製造方法並びにそれらに使用される現像液
The purpose of the present invention is to provide a pattern formation method that makes it possible to form a pattern having a shape that exhibits suitable exposure latitude, suitable development characteristics, and a suitable pattern profile.
本発明は、露光ラチチュード、現像特性、及びパターンプロファイルが良好な形状のパターンが形成可能なパターン形成方法を提供することを目的とする。
Disclosed are: a resist composition and a resist pattern formation method, both of which enable the formation of a fine resist pattern having good lithographic properties; a novel polymeric compound which is useful for the resist composition; and a compound which is useful as a monomer for the polymeric compound.
微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物が提供される。
The present invention provides: a colored radiation-sensitive composition that can suppress the phenomenon of the color purity decreasing of pixels obtained earlier when the colored radiation-sensitive composition of another color infiltrates the pixels obtained earlier; a colored cured film using same; a color filter; a color pattern formation method; a method for producing the color filter; a solid-state imaging element; and an image display device.
先に形成された画素に他の色の着色感放射性組成物が浸透したりして、先に得られた画素の色純度が低下する現象を抑制することができる着色感放射線性組成物、および、それを用いた、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子ならびに画像表示装置を提供する。
The present invention addresses the problem of providing a composition for forming a resist underlayer film that enables a resist underlayer film to be formed that has excellent etching performance and reduced reflectance, as providing a pattern formation method using the same.
本発明は、エッチング耐性に優れ、反射率が低減されたレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供することを課題とする。
Disclosed are a pattern formation method and a pattern formation apparatus using a plastic mold and a visible-light-curable resin composition.
所定パターンを有するプラスチックモールドを、可視光硬化性樹脂組成物に押し付けて該所定パターンを転写したパターンを成形し、光を照射して該樹脂組成物を硬化させることを特徴とするパターン形成方法等を提供する。
Also provided are a resist film, a resist coating mask blank, a resist pattern formation method, and a photomask in which the active-light-sensitive or radiation-sensitive composition is employed.
高感度、高解像性、高い経時安定性、スカムの発生が少なく及び良好なドライエッチング耐性を同時に満足するパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性組成物、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及びフォトマスクを提供する。
Specifically disclosed are: a cyclic compound having a specific structure; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the compound; and a resist pattern formation method using the composition.
特定構造を有する環状化合物、その製造方法、該化合物を含む感放射性組成物、及び該組成物を用いるレジストパターン形成方法。
Disclosed are: a cyclic compound which has high solubility in a safe solvent, is highly sensitive, enables the formation of a resist pattern having a good shape, and rarely causes resist pattern collapse; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the cyclic compound; and a resist pattern formation method using the composition.
安全溶媒に対する溶解性が高く、高感度でかつ、得られるレジストパターン形状が良好で、レジストパターン倒れを生じにくい環状化合物、その製造方法、その環状化合物を含む感放射線性組成物、及び該組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
Provided are a compound, actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, and pattern formation method, a method for manufacturing an electronic device using the same, and an electronic device, whereby high resolution and exposure latitude, and good pattern shape are realized in a minute (e.g., a line width or space width of 50 nm or less) region of pattern formation by an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a compound represented by general formula (1) or (2).
一般式（１）又は（２）で表される化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物により、微細（例えば、線幅又はスペース幅５０ｎｍ以下）のパターン形成の領域において、高い解像性及び露光ラチチュード、並びに良好なパターン形状を実現する化合物、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
Synoniemen voor pattern formation method in het Engels
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