The etched vertical side wall is immediately passivated and protected in the following etching step.
Dadurch wird die gerade geätzte Seitenwand passiviert und beim folgenden Ätzschritt geschützt.
The method of any preceding claim, wherein the etching step is an anisotropic etch.
Verfahren nach einem der voranstehenden Ansprüche, wobei der Ätzschritt eine anisotrope Ätzung ist.
A method according to any of the preceding claims wherein after said electrochemical roughening and before said anodization a chemical etching step is carried out.
Verfahren nach irgendwelchem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß nach dem elektrochemischen Aufrauhen und vor der Eloxierung eine chemische Ätzstufe durchgeführt wird.
The method of claim 3 characterized in that the surface is cleaned by contact with a halocarbon material prior to the mild etching step.
Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche durch in Kontakt bringen mit einem Halogenkohlenstoffmaterial vor der milden Ätzstufe gereinigt wird.
Instead of a simple hole with vertical smooth walls, every etching step produces a spherical depression with a curved surface.
Statt eines einfachen Loches mit senkrechten, glatten Wänden, erzeugt jeder Ätzschritt eine kugelförmige Vertiefung mit gewölbter Oberfläche.
This made porous region may then be selectively etched in the subsequent etching step.
B. Dieser porös gemachte Bereich kann dann in dem späteren Ätzschritt selektiv herausgeätzt werden.
By a slight over-etching, the mask can be removed at the end of the etching step as well, so that only a patterned layer of electrically conductive organic polymer remains.
Durch ein geringfügiges Überätzen kann die Maske zum Ende des Ätzschrittes ebenfalls abgetragen werden, so dass nur eine strukturierte Schicht des elektrisch leitfähigen organischen Polymers zurückbleibt.
A method as claimed in claim 4 wherein said etching step takes place prior to said oxidizing step.
Verfahren nach Anspruch 4, bei welchem der Ätzschritt vor dem Oxidationsschritt stattfindet.
As a result, without the interposition of further treatments such as ablation process steps, an etching step or a lift-off step, can be connected.
Dadurch können ohne Zwischenschaltung von weiteren Behandlungen Prozessschritte wie etwa ein Abtragen, ein Ätzschritt oder ein Lift-off-Schritt, angeschlossen werden.
A method for forming a semiconductor laser array as defined in claim 5, wherein said etching step is effected by polishing.
Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-Laseranordnung nach Anspruch 5, wobei der Ätzschritt mittels Polieren ausgeführt wird.
Process of claim 1, wherein said reactor pressure is 13.3 µbar during said etching step.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Reaktordruck während des Ätzschrittes 13,3 µbar beträgt.
Starting from the front side of the substrate material is removed in the region under the holes then in an isotropic etching step, wherein the substrate to the depth of the cavity thereby produced may be referred to as a sacrificial layer.
Ausgehend von der Vorderseite wird dann in einem isotropen Ätzschritt das Substratmaterial im Bereich unter den Löchern entfernt, wobei das Substrat bis zu der Tiefe der dabei erzeugten Kaverne als Opferschicht bezeichnet werden kann.
The membrane is finally removed from the semiconductor substrate by means of a subsequent etching step through openings in the first layer, the mechanical connection from the membrane to the semiconductor substrate being established with the aid of the first layer.
Mit einem nachfolgenden Ätzschritt durch Öffnungen in der ersten Schicht wird abschließend die Membran aus dem Halbleitersubstrat herausgelöst, wobei die mechanische Verbindung von der Membran zum Halbleitersubstrat mittels der ersten Schicht erfolgt.