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seconde couche intermédiaire
and a third glass sheet overlying the second interlayer.
forming a second interlayer insulating film on the second element layer
à former un second film isolant d'intercouche sur la seconde couche d'élément
thereafter, ferroelectric capacitor, second interlayer insulating film, etc. are formed
ensuite, un condensateur ferroélectrique, un second film isolant intercouche, etc., sont formés
on the second interlayer, a plurality of second resonant electrodes are interdigitally disposed
une pluralité de deuxièmes électrodes résonantes sont disposées de manière interdigitée sur la deuxième couche intermédiaire
on the surface part thereof, a step for etching it selectively to form a second interlayer connector
à la surface, à la graver de manière sélective afin de former un deuxième connecteur intercouches
which contains c, h and o as the fundamental constituents, at the interface with the second interlayer insulating film.
qui contient c, h et o en tant que constituants fondamentaux, à l'interface avec le second film isolant intercouche.
Following the insertion of at least the second interlayer reinforcement, this layer spacing is closed to bring the first and second layers into contact.
Consécutivement à l'insertion d'au moins le second renfort intercouche, l'espace intercouche est fermé pour amener les première et deuxième couches en contact.
is formed by etching a second interlayer insulating film portion exposed from the region where an opening section
est formée par gravure d'une partie d'un deuxième film isolant intercouche exposée à partir de la région dans laquelle une section d'ouverture
conducting a first etching for forming of holes by etching the second interlayer insulating film
à réaliser une première gravure afin de former des trous par gravure du second film isolant d'intercouche
a second interlayer insulating film formed on the first interlayer insulating film
un second film isolant de couche intermédiaire formé sur le premier film isolant de couche intermédiaire
a step of forming an opening in the second interlayer resin insulating layer, which opening reaches the first conductor circuit
une étape consistant à former une ouverture dans la deuxième couche isolante intercalaire en résine, ladite ouverture atteignant le premier circuit en conducteurs
hydrogen content of the first interlayer insulating film is lower than that of the second interlayer insulating film.
la teneur en hydrogène du premier film isolant intercouches est inférieure à celle du second film isolant intercouches.
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